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    本發明於此處所描述的是一種經塗覆的光激發光材料以及一種製備這種經塗覆的光激發光材料的方法。更特別的是，這裡所提供的是塗覆有二氧化鈦的磷光體，用於製備塗覆有二氧化鈦的磷光體的方法，以及包含塗覆有二氧化鈦的磷光體的固態發光元件。
    公开号:TW201323581A
    申请号:TW101136769
    申请日:2012-10-05
    公开日:2013-06-16
    发明作者:李宜昆；陳緒芳；謝友明
    申请人:英特曼帝克司公司；
    IPC主号:H01L33-00
    专利说明:
    具有厚且均勻的氧化鈦塗覆的高可靠性光激發光材料
    本發明提供一種經塗覆的光激發光材料以及一種用於製備這種經塗覆的光激發光材料的方法。更具體地說，雖然不完全，此處提供的是以二氧化鈦塗覆的磷光體，用於製備塗覆有二氧化鈦的磷光體的方法，以及包括塗覆有二氧化鈦的磷光體的固態發光元件。
    光激發光材料是白光發光二極體(LED)的不可分割的組成部分，其中白光發光二極體典型用作例如包括行動電話和液晶顯示裝置的各種顯示器源的背光源。最近，使用光激發光材料的白光發射LED已經被廣泛地用於照明，並已被提議作為替代傳統的白色光源，如白熾燈、磷光燈和鹵素燈。
    許多的光激發光材料所具有的問題是它們對熱、氧氣和水分的敏感性，從而影響使用這些材料的裝置的壽命及/或實用性。因此，需要比當前可用的發光對熱、氧氣和水分更穩定的新穎的光激發光材料
    本發明的教學透過提供具有對熱和水分的優異的穩定性的經塗覆的發光材料、製造這些經塗覆的發光材料的方法以及將這些經塗覆的光激發光材料併入的LED裝置而滿足這些和其他需要。在一個態樣中，提供了一種經塗層的光激發光材料。經塗層的光激發光材料包括光激發光材料和二氧化鈦的均勻層。二氧化鈦的層可以是例如在約80nm至約500nm之間厚。
    在第二態樣中，提供了一種合成經均勻地塗覆的光激發光材料的方法。該方法包括以下步驟：沉積二氧化鈦一有效的時間，以在單一塗覆週期中的光激發光材料的表面上沉積二氧化鈦的均勻層至厚度至少為約71nm，在一些實施例中厚度可以是至少約80nm。二氧化鈦生成自液相中的二氧化鈦的前驅物，並且以每小時約1nm至約100nm之間的速率沉積，並且在一些實施例中以每小時約3nm至約20nm之間的速率沉積。
    在第三態樣中，提供了一種經塗覆的光激發光材料。經塗覆的光激發光材料可以透過以下方法來製備：該方法包括沉積二氧化鈦一有效的時間的步驟以在單一塗覆週期中於光激發光材料上沉積至少約80nm厚的二氧化鈦的均勻層為。二氧化鈦生成自液相中的二氧化鈦的前驅物，並且以每小時約3nm至約18nm之間的速率沉積。
    在第四態樣中，提供了一種固態發光元件。該發光元件包括：固態發光器，其通常是LED晶片；以及經塗覆的光激發光材料。經塗覆的光激發光材料可以與如聚矽氧烷或環氧樹脂的光透射接合劑混合，該混合物施加到該LED晶片的發光表面。可替代的實施例中，經塗覆的光激發光材料可以作為一層被提供在構件的表面上，或者併入內部和同質地分佈遍及構件的體積，該構件是相對於LED來遠程定位。經塗層的光激發光材料包括光激發光材料和二氧化鈦的均勻層。二氧化鈦的層可以是例如在約80nm至約500nm之間厚。
    本文中所提供的教導指向對熱和水分具有優異的穩定性的光激發光材料。當與相同的組合物的未塗覆的光激發光材料相比時，該教導包括經塗覆的光激發光材料，通常具有例如對水分和熱的優異的穩定性。經塗覆的光激發光材料的優異的穩定性創建了例如在發光元件中的材料的光激發光性能的穩定性的改善。
    因此，該教導指向一可靠的、具有厚的和均勻的二氧化鈦的塗覆的光激發光材料。這種經塗覆的材料包括在光激發光材料的表面上的光激發光材料和含有二氧化鈦的層，該層具有約為80nm至約500nm範圍的厚度、約為80nm至約450nm、約為100nm到約400nm、約為125nm到約450nm、約為150nm至約375nm、約為175nm至約350nm、約為200nm至約400nm、約為250nm至約500nm或者其中的任何範圍。在一些實施例中，塗覆的厚度可以是約80nm、約100nm、約120nm、約140nm、約160nm、約180nm、約200nm、約220nm、約240nm、約260nm、約280nm、約300nm、約320nm、約340nm、約360nm、約380nm、約400nm、約420nm、約440nm、約460nm、約480nm、約500nm或者其中以約5nm增量的任何厚度。
    本文所教示的塗覆在光激發光材料的光產生上具有小至沒有(little-to-no)的影響。例如，從未塗覆的形式的光激發光材料的光激發光的強度和色度可以相同或者實質上相同於從具有含有二氧化鈦的層的光激發光材料的光激發光的強度。
    在一些實施例中，塗覆的光激發光材料的性能參數的可靠性可以是大於相同組合物的未塗覆的光激發光材料，其中性能可靠性可在包括比較情況下不同的光激發光材料的發光元件之間的例如使用亮度穩定性、顏色穩定性或它們的組合的量測的材料之間比較，否則發光元件是相同的。在其它實施例中，光激發光、亮度穩定性或顏色穩定性是大於其它經塗覆的光激發光材料。用語“穩定性”是可以使用的，例如，參考對一時間週期內的性能參數的變化或劣化的電阻，諸如一時間週期的發光元件的輸出的強度或輸出的一致性。在一些實施例中，一時間週期內可以是例如在一組使用的操作或測試條件下的1000小時、1250小時、1500小時、1750小時、2000小時、3000小時、4000小時、5000小時或10,000小時，以比較在發光元件之內或之間的性能參數的性能的可靠性。
    二氧化鈦層可以沉積為均勻的或者實質上均勻的層。均勻性可以表示使用對技術人員公知的任何量測，如本文所教導的在塗覆上由測量法所得到的數據的統計量測。層可以被認為是“均勻的”，例如，在該層的均勻性中的變化被認為提出在該層的能力上的小至沒有的影響，以保護如預期的光激發光材料。層可以被視為“實質上均勻的”，其中在層的均勻性的變化被認為指出在層的能力上的小於實質的影響，以保護如預期的光激發光材料，這樣只有在性能參數、或者性能可靠性上輕微的影響，並且該裝置的使用者將相信該層被提高了如預期的至少實質上裝置的可靠性。
    在一些實施例中，用語“實質上”可以被用於指示所尋求和所實現之間的差異。在一些實施例中，差異可以是10%、20%、30%或35%以上、或者在兩者之間的任何量，並且可能被視為非實質性的差異的量可以取決於考慮情況下的措施。變化可以是實質的，例如，性能特性不能至少滿足於所尋求的最小程度。同樣地，在一些實施例中，用語“約”可以用於指示量或變化，其中在量或變化的量測中的不同可以被考慮為非實質的，差異創建小於在相關的性能特徵中的實質的改變。
    層的均勻性可以使用已應用到光激發光材料的表面的層的平均厚度的百分比變化來進行測量和比較。在厚度上的百分比變化的範圍可以是例如從約1%至約33%，以及其間任何1%的增量，其中，在一些實施例中，該層的最小厚度不低於80nm。在一些實施例中，二氧化鈦層的厚度的變化小於2%。在其它實施例中，二氧化鈦層的厚度為約2%變化。在另一些實施例中，二氧化鈦層的厚度由約2.0至約2.8%、或其間任何0.2%變化。另一些實施例中，二氧化鈦層的厚度的變化小於3%。在另一些實施例中，二氧化鈦層的厚度變化小於4%。另一些實施例中，二氧化鈦層的厚度變化小於5%。在另一些實施例中，二氧化鈦層的厚度變化小於10%。另一些實施例中，二氧化鈦層的厚度由約1.0至約10.0%、或其間任何0.5%的增量變化。在另一些實施例中，二氧化鈦層的厚度變化小於20%。在另一些實施例中，二氧化鈦層的厚度變化小於30%。應當理解的是，其中的百分比變化超過一可以接受的量，塗覆層也可以低於可接受的厚度，提供了具有例如小於理想(less-than-desirable)的防潮屏障的光激發光材料。
    一種可接受的變化量將取決於該塗覆的平均厚度。在一些實施例中，可接受的變化量從而導致在大於80nm的塗覆層中的最小厚度。因此，用語“均勻性”可以用來指使用技術人員已知的任何方法(例如，電子顯微鏡)所測得的厚度的變化。在一些實施例中，在厚度的變化可以是+/- 5nm、+/- 10nm、+/- 15nm、+/- 20nm、+/- 25nm、+/- 30nm、+/- 35nm、+/- 40nm、+/- 45nm、+/- 50nm、+/- 60nm、+/- 70nm、+/- 80nm、+/- 90nm或者+/- 100nm。在一些實施例中，變化小於30nm、20nm、10nm、5nm、3nm、2nm或者1nm。在一些實施例中，變化可以是+/- 5%、+/- 10%、+/- 15%、+/- 20%、+/- 25%、+/- 30%或者+/- 35%。在一些實施例中，變化小於30%、20%、10%、5%、3%、2%或者1%。
    在一些實施例中，二氧化鈦層可以是約80nm至約500nm之間厚。在其它實施例中，二氧化鈦層可以是約100nm至約500nm之間厚。在另一些實施例中，二氧化鈦層可以是約200nm至約500nm之間厚。在另一些實施例中，二氧化鈦層可以是約400nm至約500nm之間厚。在另一些實施例中，二氧化鈦層可以是約200nm至約400nm之間厚。在另一些實施例中，二氧化鈦層可以是約300nm至約400nm之間厚。在另一些實施例中，二氧化鈦層可以是約350nm厚。在一些實施例中，二氧化鈦層的厚度約為100nm、200nm、300nm、400nm、500nm、或者其間任何10nm的增量。
    在一些實施例中，經塗覆的材料的大小是在約2μm與約50μm之間。在其它實施例中，經塗覆的材料的大小是約5μm至約20μm之間。經塗覆的材料的大小可以使用技術人士已知的任何方法來決定。
    在一些實施例中，光激發光材料是磷光體。在其它實施例中，光激發光材料是矽酸鹽磷光體、鋁酸鹽磷光體、氮化物磷光體、氧氮化物磷光體、硫化物磷光體或氧硫化物磷光體。在其它實施例中，光激發光材料是矽酸鹽磷光體。
    在一些實施例中，磷光體是硫化物磷光體，例如(Ca,Sr,Ba)(Al,In,Ga)2S4：Eu、(Ca,Sr)S：Eu、CaS：Eu、(Zn,Cd)S：Eu：Ag。在其它實施例中，磷光體是氮化物磷光體，例如(Ca,Sr,Ba)2Si5N8：Eu、CaAlSiN3：Eu、Ce(Ca,Sr,Ba)Si7N10：Eu或者(Ca,Sr,Ba)SiN2：Eu。其他示範的磷光體包括Ba2+、Mg2+共摻雜的Sr2SiO4、(Y,Gd,Lu,Sc,Sm,Tb,Th,Ir,Sb,Bi)3(Al,Ga)5O12：Ce(有或沒有Pr)、YSiO2N：Ce,Y2Si3O3N4：Ce、Gd2Si3O3N4：Ce、(Y,Gd,Tb,Lu)3Al5-xSixO12-x：Ce、BaMgAl10O17：Eu(有或沒有Mn)、SrAl2O4：Eu、Sr4A14O25：Eu、(Ca,Sr,Ba)Si2N2O2：Eu、SrSi,Al2O3N2：Eu、(Ca,Sr,Ba)Si2N2O2：Eu、(Ca,Sr,Ba)SiN2：Eu以及(Ca,Sr,Ba)SiO4：Eu(Winkler等人的美國專利申請案第2010/0283076號；Lee等人的應用表面科學(Applied Surface Science)257，(2011)8355-8369)。
    在一些實施例中，磷光體是一種鋁矽酸鹽基的橙紅色磷光體，其具有化學式(Sr1-x-yMXTy)3-mEum(Si1-zAlz)O5的混合的二價和三價陽離子，其中M是Ba、Mg和Zn中至少一者，T為三價金屬，0x0.4，0y0.4，0z0.2以及0.001m0.4(Liu等人的美國專利申請第2008/0111472號)。
    在其它實施例中，磷光體是YAG：Ce的磷光體，其化學式為(Y,A)3(Al,B)5(O,C)12：Ce3+，其中A被選自由Tb、Gd、Sm、La、Sr、Ba、Ca所構成的群組中，以及A以約0.1%至100%的量值範圍來取代Y；B被選自由Si、Ge、B、P和Ga所構成的群組中，以及B以約0.1%至100%的量值範圍來取代Al；以及C被選自由F、Cl、N和S所構成的群組中，以及C以約0.1%至100%的量值範圍來取代O(Tao等人的美國專利申請第2008/0138268號)。
    在其它實施例中，磷光體是一種矽酸鹽基的黃綠色磷光體，其化學式為A2SiO4：Eu2+D，其中A是Sr、Ca、Ba、Mg、Zn和Cd；以及D是選自由F、Cl、Br、I、P、S和N所構成的群組的摻雜物(Wang等人的美國專利第7311858號)。
    在其它實施例中，磷光體是一種鋁酸鹽基的藍色磷光體，其化學式為(M1-xEux)2-zMgzAly)O[2+3/2)y，其中M是Ba和Sr中的至少一個，(0.05<x<0.5；3y8；以及0.8z1<1.2)、或者(0.2<x<0.5；3y8；以及0.8Z1<1.2)、或者(0.05<x<0.5；3y12；以及0.8z1<1.2)、或者(0.2<x<0.5；3y12；以及0.8z1<1.2)、或者(0.05<x<0.5；3y6；以及0.8Z1.2)(Dong等人的美國專利第7390437號)。
    在其它實施例中，磷光體是化學式(Gd1-xAx)(V1-yBy)(O4-zCz)的黃色磷光體，其中A是Bi、Tl、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu；B是Ta、Nb、W和Mo；C是N、F、Br和I；0<x<0.2；0<y<0.1；以及0<z<0.1(Li等人的美國專利第7399428號)。
    在其它實施例中，磷光體是化學式A[Srx(M1)1-x]zSiO4．(1-a)[Sry(M2)1-y]uSiO5：Eu2+D的黃色磷光體，其中M1和M2是諸如Ba、Mg、Ca和Zn中的二價金屬的至少一個；0.6a0.85；0.3x0.6；0.85y1；1.5z2.5；以及2.6u3.3，並且Eu和D是在0.0001至約0.5之間；D是選自由F、Cl、Br、S和N所構成的群組的陰離子，並且至少一些D取代主晶格中的氧(Li等人的美國專利第7922937號)。
    在另一些實施例中，磷光體是矽酸鹽基的綠色磷光體，其化學式為(Sr,A1)x(Si,A2)(O,A3)2+x：Eu2+，其中A1是為諸如Mg、Ca、Ba、Zn或+1和=3離子的組合的至少一個二價金屬離子；A2是包括B、Al、Ga、C、Ge、P中至少一個的3+、4+或5+陽離子；A3是包括F、Cl和Br的1-、2-或3-陰離子；以及1.5x2.5(Li等人的美國專利申請第2009/0294731號)。
    在另一些實施例中，磷光體是氮化物基的紅色磷光體，其化學式為MaMbBc(N,D)：Eu2+，其中Ma是諸如Mg、Ca、Sr、Ba的二價金屬離子；Mb是諸如Al、Ga、Bi、Y、La、Sm的三價金屬；Mc是諸如Si、Ge、P1和B的四價元素；N是氮；以及D是諸如F、Cl或Br的鹵素(Liu等人的美國專利申請案第2009/0283721號)。
    在另一些實施例中，磷光體是矽酸鹽基的橙色磷光體，其化學式為(Sr,A1)x(Si,A2)(O,A3)2+x：Eu2+，其中A1是諸如Mg、Ca、Ba、Zn或+1和=3離子的組合的至少一個二價金屬離子；A2是包括B、Al、Ga、C、Ge、P中至少一個的3+、4+或5+陽離子；A3是包括F、Cl和Br的1-、2-或3-陰離子；以及1.5x2.5(Cheng等人的美國專利第7655156號)。
    在其它實施例中，磷光體是鋁酸鹽基的綠色磷光體，其化學式M1-xEuxMg1-yMnyAlzO[(x+y)+3z/2)，其中0.1<x<1.0；0.1<y<1.0；0.2<x+y<2.0；以及2z14(Wang等人的美國專利第7755276號)。
    本文所提供的教導被指向在諸如在此描述的各種各樣的光激發光基板上的含有二氧化鈦的塗覆的應用。在一些實施例中，二氧化鈦可以產生自二氧化鈦的前驅物。在一些實施例中，前驅物是一種有機金屬化合物。在其它實施例中，有機金屬化合物是乙醇鈦(Ti(EtO)4)、丙醇鈦(Ti(PrO)4)、異丙醇鈦(Ti(i-PrO)4)、正丁醇鈦(Ti(n-BuO)4)、異丁醇鈦(Ti(i-BuO)4)、叔丁醇鈦(Ti(t-BuO)4)、肆(二乙胺基)鈦[(CH3CH2)2N]4、Ti(AcAc)4、Ti(CH3)4、Ti(C2H5)4或它們的組合。在一些實施例中，前驅物是一種無機鹽。在其它實施例中，無機鹽是氧化鈦(TiO2)、氯化鈦(TiCl4)、氟化鈦(TiF4)、硝酸鈦(Ti(NO)3)、溴化鈦(TiBr4)、碘化鈦(TiI4)或者硫酸鈦(TiOSCO4)。
    此處的教導也提供了用於製造具有對熱和水分的優異的穩定性的光激發光材料的方法。在一些實施例中，該方法可以包括沉積二氧化鈦一有效的時間以在單一塗覆週期的光激發光材料上沉積厚度至少約為80 nm的二氧化鈦的均勻層。在一些實施例中，該方法包括在光激發光材料的表面上沉積一層二氧化鈦，其中該二氧化鈦可以由液相的二氧化鈦的前驅物所產生。沉積可以發生一有效的時間，以在單一塗覆週期的光激發光材料的表面上創造至少約為80 nm的所希望的厚度的二氧化鈦的均勻層。在一些實施例中，該方法包括形成前驅物和溶劑的混合物，並逐漸將水添加到該混合物中以控制(i)來自前驅物的二氧化鈦的形成的速率，以及(ii)在有效的時間週期內的光激發光材料的表面上二氧化鈦的沉積的速率，以沉積一均勻層。在一些實施例中，該溶劑可包括：水、如甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、丁醇、戊醇以及己醇的醇類、丙酮、甲基乙基酮(methyl ethyl ketone)、其他烴、或者它們的混合物。
    在一些實施例中，用於合成經塗覆的光激發光材料的方法可以包括以下步驟：添加光激發光材料到溶劑中，以形成第一混合物；調整第一混合物的pH值，以製備二氧化鈦前驅物的水解；添加二氧化鈦前驅物到該第一混合物，以形成第二混合物，其中前驅物可以控制的速率被添加到該第一混合物中，並且所添加的前驅物的量可以是例如與光激發光材料的重量相比的二氧化鈦的重量計低於約10%；將第二混合物混合一段時間週期以允許在光激發光材料的表面上的二氧化鈦的沉積；洗滌經塗覆的光激發光材料；淨化經塗覆的光激發光材料；乾燥經塗覆的光激發光材料；以及煅燒經塗覆的光激發光材料。
    應當理解的是，任何數量的額外步驟可以被添加到該製程中。例如，塗覆製程可以包括額外的反應步驟、固化步驟、乾燥步驟、熱處理步驟以及類似步驟。例如，製程可以包括添加水和溶劑的混合物，以形成第三“固化”混合物；加熱及/或反應第三混合物經過一第二時間週期；以及或許添加附加的步驟經過一第三時間週期。例如，在一些實施例中，光激發光材料的濃度可以是在約0.0001g/mL和約10.0g/mL之間。
    應當理解的是，在一些實施例中，在表面上的二氧化鈦的沉積的速率使用本文中所提供的教導可以被控制到原子層沉積的等級。沉積速率可以使用在一反應時間的選擇。技術人員將會理解，反應時間的選擇將(至少部分地)取決於製程設計，其中可以包括前驅物的選擇、試劑濃度、試劑加入的速率、反應溫度和所希望的塗覆厚度。這些製程條件決定了在光激發光材料的表面上的二氧化鈦的沉積的速率。在一些實施例中，二氧化鈦是以每小時約1nm和約100nm之間的速率沉積。在一些實施例中，二氧化鈦是以每小時約5nm和約20nm之間的速率沉積在光激發光材料上。在其它實施例中，二氧化鈦是以每小時約3nm和約18nm之間的速率沉積在光激發光材料上。在其它實施例中，二氧化鈦是以每小時約6nm和約15nm之間的速率沉積在光激發光材料上。在其它實施例中，二氧化鈦是以每小時約5nm和約7nm之間的速率沉積在光激發光材料上。在其它實施例中，二氧化鈦的第二層沉積在光激發光材料上。
    在一些實施例中，濃度可以透過反應物的計量添加來控制。例如，前驅物可以在溶劑中稀釋，並以控制的速率將水加入來控制前驅物的水解。在一些實施例中，該前驅物可以是溶解在異丙醇中的Ti(i-PrO)4，並透過計量添加來逐漸加入水以控制前驅物的水解的速率。在另一範例中，光激發光材料和溶劑的第一混合物可以在用於前驅物的水解的準備中被調節到所希望的pH值，其中然後該前驅物使用計量添加以所希望的pH值被添加到該第一混合物，以控制前驅物的水解的速率。
    使用技術人員已知的任何方法可以實現反應物的計量添加。在一些實施例中，該前驅物可以被添加滴加到含有前驅物的水解的條件的混合物。在一些實施例中，該前驅物可以用細微的注射針而連續地注入。在一些實施例中，諸如水或含有水的有機溶劑的水解劑可以被添加滴加至前驅物和溶劑的混合物。例如，一種方法可以包括形成前驅物和溶劑的混合物，並將水逐漸加入到該混合物，以控制(i)來自前驅物的二氧化鈦的形成的速率以及(ii)在一有效的時間期間在激發光材料的表面上的二氧化鈦的沉積的速率，以沉積該均勻層。
    在一些實施例中，該前驅物可以每分鐘約0.0001 mL和每分鐘200 mL之間的速率來添加。在一些實施例中，前驅物可以每分鐘約2 mL和每分鐘30 mL之間的速率來添加。在一些實施例中，前驅物可以每分鐘約6 mL和每分鐘20 mL之間的速率來添加。在一些實施例中，前驅物可以每分鐘5 mL和每分鐘60 mL之間的速率來添加。
    沉積速率的控制提供了在光激發光材料的表面上沉積所希望厚度的二氧化鈦層的反應時間的控制。反應時間的範圍可以例如從0.1.0小時到10天、從1.0小時至7天、從2小時至5天、從1.0小時至4天、從0.5小時至3天、從0.5小時至2天、從0.5小時至1天、從1.0小時至18小時、從0.5小時至12小時、從0.5小時至8小時、從1.0小時至6小時、從0.5小時至4小時、從0.5小時至2小時或者其中的任何範圍。
    在一些實施例中，反應混合物可以被加熱到約30℃至溶劑的沸點的+/- 10℃的範圍的溫度。在其它實施例中，將反應混合物加熱至約40℃到約80℃之間的溫度。應當理解的是，用語“反應”可以使用在一些實施例中來稱呼例如水解前驅物以形成二氧化鈦、沉積一層二氧化鈦在光激發光材料的表面上、以及類似等等，其中分子結構之間的接合的變化可以在製程中的步驟期間發生。
    在一些實施例中，經塗覆的光激發光材料可被純化。例如，經塗覆的光激發光材料可以透過以溶劑來洗滌、然後過濾而被純化。在其它實施例中，經塗覆的光激發光材料可以透過離心分離、沉降和傾析來純化。任何技術人員已知的純化的方法都可以使用。
    在一些實施例中，經塗覆的光激發光材料可以在約60℃至約200℃之間的溫度下乾燥。在其它實施例中，經塗覆的光激發光材料可以在約85℃至約200℃之間的的溫度下乾燥。並且在一些實施例中，乾燥可以包括真空乾燥、冷凍乾燥或臨界點乾燥。在另一些實施例中，經塗覆的光激發光材料可以在約200℃至約600℃之間的溫度下煅燒。
    合成經塗覆的光激發光材料的其他方法係提供於此。光激發光材料被添加到溶劑中以形成第一混合物。第一混合物的pH值被調整到與二氧化鈦的無機前驅物反應。該前驅物以控制的速率添加至第一混合物以形成第二混合物，其中添加的前驅物的量是以光激發光材料的重量計低於約10%。將第二混合物加熱一時間週期，然後反應第二時間週期。經塗覆的光激發光材料被純化、乾燥然後煅燒。在一些實施例中，該第二混合物被加熱至約40℃至約80℃之間的溫度，並經歷約0.1小時至約10天之間的時間週期。在其它實施例中，第二混合物反應經歷約0.1小時至約10天之間的第二時間週期。
    在一些實施例中，發光二極體元件係設置。發光二極體元件包括晶片和經塗覆的光激發光材料。經塗覆的光激發光材料包括光激發光材料和二氧化鈦的均勻層。二氧化鈦層是80nm和500nm之間的厚度。在一些實施例中，該元件具有比以具有未塗覆的形式的發光二極體晶片和光激發光材料的第二元件更高的亮度穩定性和顏色穩定性。亮度穩定性和顏色穩定性可在例如超過至少1000小時的操作的週期下測試和比較。在一些實施例中，該元件具有約200nm至約500nm之間的範圍的二氧化鈦層的厚度。在本實施例中，該元件具有比具有未塗覆的形式的發光二極體晶片和光激發光材料的第二元件更高的亮度穩定性和顏色穩定性。在一些實施例中，二氧化鈦塗覆的範圍可以從71nm至500nm。在一些實施例中，二氧化鈦層的厚度例如為至少80nm、90nm或100nm；以及例如在其他實施例中，約200nm、約300nm、約400nm或約500nm。因此，藉由此處的教導所提供的發光元件可以具有超過包括經塗覆的發光材料的其他這樣的元件的亮度穩定性或顏色穩定性。亮度穩定性和顏色穩定性可以再次在超過至少1000小時的操作的週期下測試。
    實施例1：二氧化鈦前驅物的選擇。
    塗覆製程是一種液體的製程，其可以使用二氧化鈦的有機金屬前驅物或二氧化鈦的無機前驅物。所選擇的前驅物的類型會影響溶劑的選擇、反應溫度、及反應時間、以及反應物的添加率。可以使用二氧化鈦的有機金屬或無機前驅物。
    有機金屬前驅物的使用一般會首先包括分散不含水的前驅物，或實質上不含水的溶劑介質。在沉積可以發生在光激發光材料的表面上之前，避免了不希望的前驅物的水解反應發生。例如，在使用與水接觸造成水解的有機金屬前驅物的製程中，可以得到相對純的形式且不含水的異丙醇，所以例如它是一般所有的有機金屬前驅物的良好的候選溶劑。
    前驅物選擇的選擇可以基於製程控制條件。例如，如果我們選擇正丁醇鈦或異丙醇鈦，例如，我們知道它們在水中水解速度非常快，所以我們控制在醇溶劑中的水的濃度，諸如藉由將水添加到異丙醇中，以控制反應率。另一方面，例如可以選擇無機前驅物並將其直接分散在水中以作為主要溶劑，然後pH值逐漸作出更鹼性的，如透過加入氨，以控制反應速率。
    實施例2：製造二氧化鈦塗覆的光激發光材料的一般程序。
    本實施例描述了製造經塗覆的光激發光材料的一般方法。該方法包括：選擇(i)製程構件，諸如光激發光材料(“磷光體”)、二氧化鈦前驅物和溶劑；以及(ii)製程條件，諸如成分的濃度、反應物的添加率、反應溫度和反應時間。
    在製程構件已被選擇之後，製程條件可以使用技術人員已知的方法來選擇。例如，技術人員將知道如何設計製程條件，其具有不同的反應物濃度和添加率以及反應溫度。請注意，每磷光體的重量計的總二氧化鈦的濃度低於10%(wt/wt)應被使用在每個樣品中，以驅動在磷光體的表面上的二氧化鈦的沉積。用於沉積反應的欲添加的二氧化鈦的量的選擇可以依磷光體的量和磷光體的尺寸來改變。磷光體的平均粒子尺寸的範圍可以是例如從約2μm至約30μm的直徑，並且平均直徑可以是例如綠色的矽酸鹽磷光體的約12μm至約20μm。實際的尺寸分佈的範圍可以從約1μm至約100μm的橫跨各種磷光體的類型。添加率可以包括例如添加“水解劑”，諸如水或其他含水溶劑(乙醇，例如)，在陣列中的每個樣品中的控制速率，同時也改變在整個陣列的溫度和反應時間。攪拌且等待選定的反應時間的末端以得到我們想要的塗覆厚度。針對發光元件的性能的可靠性，在整個陣列中的每個經塗覆的磷光體被測試，其中最高的可靠性建議
    使用選擇製程的成分和條件，將磷光體、二氧化鈦前驅物和溶劑一起混合以形成第一混合物。將第一混合物加熱至所選擇的反應溫度，以經控制的速率將所選擇的例如水或其它含水溶劑(如乙醇)的水解劑添加至第一混合物，以控制前驅物的水解速率。這也提供了在磷光體上的二氧化鈦的沉積率上的控制。針對所選擇的反應時間的攪拌，以得到所希望的塗覆厚度。
    厚的塗覆的組合和高水平的均勻性(低的厚度變化)與在發光元件中經塗覆的磷光體的高可靠性聯繫起來。顯示了均勻性與塗覆厚度的平衡，以導致透過保護塗覆磷光體的穩定的能量輸出，以提供了可靠的發光元件。
    實施例3：選擇綠色的矽酸鹽和紅色的氮化物磷光體的二氧化鈦塗覆的製程構件和條件。
    綠色的矽酸鹽磷光體以此範例(“綠1”)來塗覆。綠1是由方程式(Sr1-x-yBaxMgy)2SiO4Clz：Eu所表示的等級，其中0x1、0y0.5且0z0.5。
    為了具有加熱套和攪拌的玻璃反應器，加入異丙醇(IPA，3.0L)。然後綠1(200g)在攪拌下加入以形成懸浮液。鈦酸丁酯(Titanium n-butoxide)(30mL)用注射器加入到懸浮液。將懸浮液在室溫下攪拌2.0小時。去離子水和異丙醇(20mL：20mL)的混合物逐滴加入到懸浮液中。添加完畢後，將所得的懸浮液加熱至40℃經過0.5小時。允許其冷卻至室溫，並在室溫下進一步攪拌20小時。將懸浮液加熱到60℃經過1.5小時，並在室溫下進一步攪拌22小時。然後用去離子水和異丙醇(80mL：50mL)的第二部分逐滴加入到懸浮液中。將懸浮液加熱至40℃經過1.0小時，並在室溫下進一步攪拌2.5小時。攪拌配件被移除。混合物放置10分鐘。在通過布氏漏斗(Büchner funnel)過濾之前，將該溶液的頂層輕輕倒出，並且加入更多的IPA以洗滌2次。漏斗中的固體在真空烤箱中以110℃乾燥1.0小時。乾燥之後，經塗覆的磷光體在箱式爐中以350℃焙燒1.0小時。
    紅色的氮化物磷光體也以此範例(“紅1”)塗覆。紅1是由方程式(Ca1-xSrx)SiN3：Eu所表示的等級，其中0x1。
    為了具有加熱套和攪拌棒的玻璃反應器，添加異丙醇(IPA，280mL)。然後紅1(10g)以攪拌下添加以形成懸浮液。鈦酸丁酯(1.5mL)用注射器加入到懸浮液。將懸浮液在室溫下攪拌2.0小時。去離子水和異丙醇(2mL：20mL)的混合物逐滴加入到懸浮液中。將所得的懸浮液加熱至40℃經過0.5小時。允許其冷卻至室溫，並在室溫下進一步攪拌20小時。將懸浮液加熱到60℃經過1.5小時，並在室溫下進一步攪拌22小時。然後用去離子水和異丙醇(4mL：20mL)的第二部分逐滴加入到懸浮液中。將懸浮液加熱至40℃經過1.0小時，並在室溫下進一步攪拌2.5小時。攪拌配件被移除，並且混合物放置10分鐘。在通過布氏漏斗過濾之前，將該溶液的頂層輕輕倒出，並且加入更多的IPA以洗滌2次。漏斗中的固體在真空烤箱中以110℃乾燥1.0小時。乾燥之後，經塗覆的磷光體在箱式爐中以350℃焙燒1.0小時。
    實施例4：比較經塗覆和無塗覆的磷光體之間的亮度和光激發光強度。
    圖1顯示了根據一些實施例的經塗覆和未塗覆的綠色矽酸鹽磷光體之間的亮度強度的比較。綠1與紅色磷光體(紅630)以光透射性接合劑混合，以得到白光(x=0.30和y=0.30)。將混合的凝膠投入至LED晶片並固化。在藍光下操作該元件，並且量測亮度。可以看出塗覆沒有創建具有綠色的矽酸鹽磷光體的LED元件的亮度強度的實質上減少。表1進一步顯示來自塗覆的強度實質上沒有損失。
    圖2顯示了根據一些實施例的經塗覆和未塗覆的綠色矽酸鹽磷光體之間的光激發光強度的比較。綠1被放入淺盤並且向下削弱以製造平坦的表面。然後磷光體藉由外部光源(藍光LED)所激發，且然後測量發射光譜。正如在圖2可以看出的，由於塗覆的光激發光沒有實質上的損失。
    圖3顯示了根據一些實施例的經塗覆和未塗覆的紅色氮化物磷光體之間的光激發光強度的比較。紅1被放入淺盤並且向下削弱以製造平坦的表面。然後磷光體藉由外部光源(藍色LED)所激發，且然後測量發射光譜。正如在圖3可以看出的，由於塗覆的光激發光沒有實質上的損失。
    實施例5：具有以二氧化鈦塗覆的磷光體的發光元件的可靠性測試。
    綠1以光透射接合劑混合。將混合的凝膠投入LED晶片並固化。經封裝的元件被放置於85℃且濕度85%的烤箱中，且連續操作。在不同的時間間隔，元件從烤箱移除，並且發射光譜藉由藍光激發所測量。收集數據來計算色彩變化和亮度。
    圖4顯示了根據一些實施例的針對綠色矽酸鹽磷光體在時間間隔超過1000小時的相對亮度強度。如圖4中所示，當與未塗覆的磷光體比較時，針對具有二氧化鈦塗覆的磷光體的發光元件觀察到高水平的亮度穩定性。
    圖5顯示了根據一些實施例的針對綠色矽酸鹽磷光體在時間間隔超過1000小時的相對色度偏移(CIE △x)。如圖5中所示，當與未塗覆的磷光體比較時，針對具有二氧化鈦塗覆的磷光體的發光元件觀察到高的色彩穩定性。
    圖6顯示了根據一些實施例的針對綠色矽酸鹽磷光體在時間間隔超過1000小時的相對色度偏移(CIE △y)。如圖6中所示，當與未塗覆的磷光體比較時，針對具有二氧化鈦塗覆的磷光體的發光元件觀察到高的色彩穩定性。
    紅1以光透射接合劑混合。將混合的凝膠投入至LED晶片並固化。經封裝的元件被放置於85℃且濕度85%的烤箱中，且連續操作。在不同的時間間隔，元件從烤箱移除，並且發射光譜藉由藍光激發所測量。收集數據來計算色彩變化和亮度。
    圖7顯示了根據一些實施例的針對紅色氮化物磷光體在時間間隔超過1000小時的相對亮度強度。如圖7中所示，當與未塗覆的磷光體比較時，針對具有二氧化鈦塗覆的磷光體的發光元件觀察到高水平的亮度穩定性。
    圖8顯示了根據一些實施例的針對氮化物磷光體在時間間隔超過1000小時的相對色度偏移(CIE △x)。如圖8中所示，當與未塗覆的磷光體比較時，針對具有二氧化鈦塗覆的磷光體的發光元件觀察到高的色彩穩定性。
    圖9顯示了根據一些實施例的針對紅色氮化物磷光體在時間間隔超過1000小時的相對色度偏移(CIE △y)。如圖9中所示，當與未塗覆的磷光體比較時，針對具有二氧化鈦塗覆的磷光體的發光元件觀察到高的色彩穩定性。
    實施例6：決定二氧化鈦層的厚度和均勻性。
    在根據上述實施例2的一般教導，每個樣品進行可靠性的測試，並且具有最高的可靠性的樣品被假定為與最佳組的條件關聯起來。塗覆的均勻性和厚度的組合被認為是提供具有高可靠性的發光元件的經塗覆的磷光體的元素。在厚度與均勻性之間的平衡被發現是重要的，以獲得磷光體的所希望的能量輸出和塗覆的密封劑能力，以保護磷光體。
    圖10顯示了根據一些實施例的具有厚度約為350nm +/-約1.4%的均勻的二氧化鈦塗覆。使用在FEI雙光束(Dual Beam)830 FIB/SEM上的原位(in situ)FIB取出技術從每個粉末準備TEM-ready樣品。待交叉剖面的粒子面積首先以銥和鉑的保護層覆蓋。這些層在FIB銑削製程期間保護塗覆表面。TEM-ready樣品以明場(BF)TEM模式和高解析度(HR)模式在200kV所操作的FEI Tecnai TF-20 FEG/TEM來成像。測量執行以決定厚度和厚度的均勻性，其中厚度的範圍從345nm至355nm，並且平均約350nm，其提供了具有約+/- 1.4%的估計變異的高水平的塗覆。
    根據本發明的實施例的發光元件10的範例顯示在圖11。該元件可包括：容納在封裝件14內的藍色發光GaN(氮化鎵)LED晶片12。封裝件14，它可以例如包括低溫共燒陶瓷(low temperature co-fired ceramic，LTCC)或高溫聚合物，包括上部和下部主體部16、18。上部主體部16定義了凹部20，其通常為圓形的形狀，其被配置以接收LED晶片12。封裝件14進一步包括電連接器22、24，其也定義了在凹部20的層面上的對應的電極接觸墊26、28。使用黏著劑或焊料將LED晶片12被安裝在凹部20的層面。該LED晶片的電極墊使用接合線30、32而電連接到在封裝件的層面上的對應的電極接觸墊26、28，並且凹部20是以透明聚合物材料34完全填充，通常是有機矽，其以粉末塗覆的磷光體材料來寫入，使得LED晶片12的暴露表面藉由磷光體/聚合物材料混合物所覆蓋。為了提高元件的發光亮度，凹部的壁被傾斜，並具有光反射表面。
    根據本發明的實施例的固態發光元件100現在將參考圖12來描述，其顯示了元件的示意性局部切除平面和剖面視圖。元件100被配置為以約3000K的CCT(相關色溫)以及約1000流明的光通量產生溫暖白光，並且可以被用作為筒燈或其他照明器具的一部分。
    元件100包括由圓形的圓盤狀的基體104、中空的圓柱壁部106和可拆卸的環形頂部108所組成的中空的圓柱體102。為了幫助熱的消散，基體104優選由鋁、鋁或任何具有高的熱導率的材料的合金所製成。如上圖12所指示，基體104可以藉由螺釘或螺栓或藉由其他緊固件或藉由黏著劑來連接到壁部106。
    元件100進一步包括複數個(在所示的例子中為4個)藍光發光LED 112(藍光LED)，其被安裝成與圓形的金屬芯印刷電路板(metal core printed circuit board，MCPCB)114熱交流。藍光LED 112可以包括十二個0.4W GaN基(氮化鎵基)藍光LED晶片的陶瓷封裝陣列，其中藍光LED晶片被配置為3列4行的矩形陣列。
    為了最大化光的發射，元件100可以進一步包括光反射表面116、118，它們分別覆蓋MCPCB 114的面和頂部108的內曲面。元件100進一步包括光激發光波長轉換部件120，其可操作以吸收藉由LED 112所產生的藍光的比例，並且將其藉由光激發光的製程而轉換為不同波長的光。元件100的發射產物包括藉由LED 112和光激發光波長轉換部件120所產生的組合光。波長轉換部件相對於LED 112遠距來定位，並且與LED在空間上分離。在本專利說明書中的“遠程”和“遠距”意指隔開或分離的關係。波長轉換部件120被配置成完全覆蓋殼體開口，使得所有藉由燈所發射的光穿過部件120。如所示的波長轉換部件120可以使用頂部108而被拆卸地安裝到壁部106的頂部，能夠很容易地改變部件和燈的發光顏色。
    如圖13所示，波長轉換部件120按順序包括光透射基板122和含有一個或多個塗覆發光材料的波長轉換層124。光透射基板122可以是任何材料，實質上是透射380nm至740nm的波長範圍的光，並且可以包括諸如聚碳酸酯或丙烯酸類的光透射聚合物或者諸如硼矽酸鹽玻璃的玻璃。對於圖12的元件100，基板122包括直徑φ=62mm和厚度t1(通常為0.5mm至3mm)的平面的圓盤。在其它實施例中，基板可以包括其他的幾何形狀，諸如為凸面或凹面的形式，例如，圓頂狀或圓柱狀。
    波長轉換層124藉由以已知的比例徹底地混合經塗覆的光激發光材料而以液體光透射接合劑材料來沉積，以形成直接沉積到基板122上的懸浮液和所得的磷光體組合物，“磷光體油墨”。波長轉換層可以藉由絲網印刷、縫口模頭塗覆、旋轉塗覆或刮漿而沉積。
    在如圖14所示的替代的實施例中，經塗覆的光激發光材料可以摻入波長轉換部件14，並均勻分佈在整個部件的體積。
    應當指出，有多種可替代的方式執行此處的教學。因此，本實施例應被視為說明性的，而不是限制性的，並且本發明並不限於這裡給出的細節，而是可在所附申請專利範圍的範疇和等效物內進行修改。根據塗覆材料組合物，特別是塗覆材料的折射指數，可能會影響所希望的塗覆厚度。例如，對於本文所教示於此的二氧化鈦塗覆，塗覆的厚度可以從約80nm至約500nm的範圍，提供具有對熱和水分的優異的穩定性的光激發光材料。該塗覆材料可使用液相的塗覆材料的前驅物的液相沉積來應用到光激發光材料使用，其中前驅物諸如有機金屬或有機前驅物。塗覆的沉積速率可以控制在每小時約1nm至約100nm之間的速率，在一些實施例中，能夠在單一製程中沉積厚的塗覆，例如，在約10小時至72小時。於此處的教導中可以看出，沉積速率可以被控制。例如，可以藉由前驅物濃度、前驅物的添加率及/或製程的溫度來控制沉積速率。藉由類似於氣相原子層沉積(ALD)，在此所教示的實施例可以被認為是一種液體的原子層生長方法，其能夠使材料的塗覆層更厚以在光激發光材料上沉積。而且，雖然已經顯示了使用本文中所教示的塗覆與基體的特別令人驚奇的結果，但是其預期的是有益的結果也可以使用於此處所教導的各種各樣的光激發光材料的任何一個上的塗覆和方法而獲得。
    所有引用於此的出版物和專利全部透過參考而將其整篇併入本說明書中。
    10‧‧‧發光元件
    12‧‧‧LED晶片
    14‧‧‧封裝件
    16‧‧‧上部主體部
    18‧‧‧下部主體部
    20‧‧‧凹部
    22‧‧‧電連接器
    24‧‧‧電連接器
    26‧‧‧電極接觸墊
    28‧‧‧電極接觸墊
    30‧‧‧接合線
    32‧‧‧接合線
    34‧‧‧透明聚合物材料
    100‧‧‧元件
    102‧‧‧圓柱體
    104‧‧‧基體
    106‧‧‧壁部
    108‧‧‧頂部
    112‧‧‧LED
    114‧‧‧金屬芯印刷電路板
    116‧‧‧光反射表面
    118‧‧‧光反射表面
    120‧‧‧波長轉換部件
    122‧‧‧基板
    124‧‧‧波長轉換層
    圖1顯示了根據一些實施例的經塗覆和未塗覆的綠色矽酸鹽磷光體之間的亮度強度的比較。
    圖2顯示了根據一些實施例的經塗覆和未塗覆的綠色矽酸鹽磷光體之間的光激發光強度的比較。
    圖3顯示了根據一些實施例的經塗覆和未塗覆的紅色氮化物磷光體之間的光激發光強度的比較。
    圖4顯示了根據一些實施例的針對綠色矽酸鹽磷光體在時間間隔超過1000小時的相對亮度強度。
    圖5顯示了根據一些實施例的針對綠色矽酸鹽磷光體在時間間隔超過1000小時的相對色度偏移(CIE △x)。
    圖6顯示了根據一些實施例的針對綠色矽酸鹽磷光體在時間間隔超過1000小時的相對色度偏移(CIE △y)。
    圖7顯示了根據一些實施例的針對紅色氮化物磷光體在時間間隔超過1000小時的相對亮度強度。
    圖8顯示了根據一些實施例的針對氮化物磷光體在時間間隔超過1000小時的相對色度偏移(CIE △x)。
    圖9顯示了根據一些實施例的針對紅色氮化物磷光體在時間間隔超過1000小時的相對色度偏移(CIE △y)。
    圖10顯示了根據一些實施例的具有厚度約為350nm +/-約1.4%的均勻的二氧化鈦塗覆。
    圖11顯示了根據本發明的實施例的發光元件的示意性剖面視圖。
    圖12顯示了根據本發明的實施例的發光元件的平面和剖面視圖。
    圖13和14顯示了根據本發明的實施例的光激發光波長轉換構件的示意性表示。
    10‧‧‧發光元件
    12‧‧‧LED晶片
    16‧‧‧上部主體部
    18‧‧‧下部主體部
    20‧‧‧凹部
    22‧‧‧電連接器
    24‧‧‧電連接器
    26‧‧‧電極接觸墊
    28‧‧‧電極接觸墊
    30‧‧‧接合線
    32‧‧‧接合線
    34‧‧‧透明聚合物材料
    权利要求:
    Claims (20)
    [1] 一種具有厚、均勻的二氧化鈦的塗覆的光激發光材料，其包括：光激發光材料；以及含有二氧化鈦的層，其在該光激發光材料的表面上；其中，二氧化鈦層的厚度範圍是從約80nm到約500nm。
    [2] 根據申請專利範圍第1項的光激發光材料，其中從未經塗覆的形式的光激發光材料的光激發光的強度是相同的或者實質上是相同與從具有含有二氧化鈦的層的光激發光材料的光激發光的強度。
    [3] 根據申請專利範圍第1項的光激發光材料，其中，該二氧化鈦層的厚度範圍是從約200nm到約500nm。
    [4] 根據申請專利範圍第1項的光激發光材料，其中，該二氧化鈦層的厚度變化小於約2%。
    [5] 根據申請專利範圍第1項的光激發光材料，其中，該二氧化鈦層的範圍是從約300nm至約400nm。
    [6] 根據申請專利範圍第1項的光激發光材料，其中，該二氧化鈦層是約350nm厚。
    [7] 根據申請專利範圍第1項的光激發光材料，其包括矽酸鹽磷光體、鋁酸鹽磷光體、氮化物磷光體、氧氮化物磷光體、硫化物磷光體或氧硫化物磷光體。
    [8] 根據申請專利範圍第1項的光激發光材料，其包含矽酸鹽磷光體。
    [9] 一種合成經均勻地塗覆的光激發光材料的方法，其包括將二氧化鈦的層沉積在光激發光材料的表面上，其中：該二氧化鈦生成自液相中的二氧化鈦的前驅物；沉積發生一有效的時間，以在單一塗覆週期中的光激發光材料的表面上沉積二氧化鈦的均勻層至厚度至少為約80nm；以及該二氧化鈦係以每小時約1nm至約100nm之間的速率沉積在該表面上。
    [10] 根據申請專利範圍第9項的方法，其中沉積包括：形成該前驅物和溶劑的混合物；以及在有效的時間期間，將水逐漸加入到該混合物中，以控制(i)由該前驅物的二氧化鈦的形成的速率以及(ii)在該光激發光材料的表面上的二氧化鈦的沉積的速率，來沉積該均勻層。
    [11] 根據申請專利範圍第9項的方法，其中二氧化鈦係以每小時約3 nm至約15 nm之間的速率來沉積。
    [12] 根據申請專利範圍第9項的方法，其中該前驅物是有機金屬化合物。
    [13] 根據申請專利範圍第9項的方法，其中該前驅物是無機鹽。
    [14] 一種根據申請專利範圍第9項的方法所合成的經塗覆的光激發光材料。
    [15] 根據申請專利範圍第14項的經塗覆的光激發光材料，其中從未塗覆的形式的光激發光材料的光激發光的強度是相同的或者實質上是相同於從具有含有二氧化鈦的層的光激發光材料的光激發光的強度。
    [16] 一種發光元件，其包括：固態光發光器；以及根據申請專利範圍第1項的經塗覆的光激發光材料。
    [17] 根據申請專利範圍第16項的發光元件，其包括矽酸鹽磷光體。
    [18] 根據申請專利範圍第16項的發光元件，其包括氮化物磷光體。
    [19] 一種發光元件，其包括：固態光源發光器；以及經塗覆的光激發光材料，其包括在光激發光材料的表面上的二氧化鈦的均勻層；其中二氧化鈦層的厚度範圍是從約200nm至約500nm之間。
    [20] 根據申請專利範圍第19項的發光元件，其包括矽酸鹽磷光體。
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    法律状态:
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
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